層間配線に多層カーボンナノチューブを用いる配線構造及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-304667
公開番号（公開出願番号）：特開2006-120730
出願日： 2004年10月19日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】 2以上の導線層の層間配線に多層カーボンナノチューブ(CNT)が使用される配線構造の低抵抗化を図ることの可能な配線構造を得ること。【解決手段】配線構造では、2以上の導電層の層間配線に多層CNTが使用される。前記多層CNTに含まれるグラフェンシートにより形成され、前記多層CNTの成長基点から遠い側の端部に同心状に形成される複数の環状の切り口が、導電層にそれぞれ接触する。CNTのキャップ層の部分を介さずに、導電層とグラフェンシートが接するので、それらの間の接触抵抗は従来よりも小さくなる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

2以上の導電層の層間配線に多層カーボンナノチューブが使用される配線構造であって、前記多層カーボンナノチューブに含まれるグラフェンシートにより形成され且つ前記多層カーボンナノチューブの成長基点から遠い側の端部に同心状に形成される複数の環状の切り口が、導電層にそれぞれ接触することを特徴とする配線構造。

IPC (3件)：

H01L 21/320 , H01L 23/52 , H01L 21/768

FI (2件)：

H01L21/88 M , H01L21/90 A

Fターム (16件)：

5F033HH11 , 5F033JJ00 , 5F033JJ07 , 5F033JJ08 , 5F033JJ11 , 5F033JJ13 , 5F033JJ18 , 5F033JJ20 , 5F033JJ21 , 5F033KK11 , 5F033NN00 , 5F033PP00 , 5F033PP01 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033XX08

引用特許：

出願人引用 (1件)

ナノワイヤーおよびその製造方法、並びにそれを用いたナノネットワーク、ナノネットワークの製造方法、炭素構造体、電子デバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-270808 出願人：富士ゼロックス株式会社

審査官引用 (5件)

集積回路装置及び集積回路装置製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-135322 出願人：富士通株式会社
炭素元素円筒型構造体へのオーミック接続構造及びその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-078353 出願人：富士通株式会社
集積回路内の半導体デバイスおよびその構成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-131296 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテッド

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