特許
J-GLOBAL ID：200903023888635446

露光装置

発明者：
平柳 徳行

平柳 徳行 について

, 
井上 英也

井上 英也 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-279773
公開番号（公開出願番号）：特開2007-095767
出願日： 2005年09月27日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】 反射型マスクと投影光学系との間に露光領域規定部材が設置されている場合においても反射型マスクの高さ位置を良好に計測することができる露光装置を提供する。【解決手段】 反射型マスクMを載置するマスクステージ55と、感応基板Wを載置する基板ステージ56とを投影光学系PLに対して相対的に走査方向に同期移動させて、露光光32により感応基板W上に反射型マスクMに形成されたパターンを転写する露光装置において、反射型マスクMと投影光学系PLとの間に配置され、露光領域を規定する開口部を有する露光領域規定部材1と、反射型マスクMに対して検出光3を照射し、反射型マスクMにより反射された検出光を受光することにより反射型マスクMの高さを検出する検出手段とを備え、露光領域規定部材1は、露光光32を透過させず、検出光3を透過させる部材により形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
反射型マスクを載置するマスクステージと、感応基板を載置する基板ステージとを投影光学系に対して相対的に走査方向に同期移動させて、露光光により前記感応基板上に前記反射型マスクに形成されたパターンを転写する露光装置において、 前記反射型マスクと前記投影光学系との間に配置され、露光領域を規定する開口部を有する露光領域規定部材と、 前記反射型マスクに対して検出光を照射し、前記反射型マスクにより反射された検出光を受光することにより前記反射型マスクの高さを検出する検出手段と、 を備え、 前記露光領域規定部材は、前記露光光を透過させず、前記検出光を透過させる部材により形成されることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 518 ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521
Fターム (14件)：
5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB09 ,  5F046CB17 ,  5F046DA05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB08 ,  5F046GA14 ,  5F046GB03 ,  5F046GB07 ,  5F046GD10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 米国特許第6359678号明細書
審査官引用 (5件)
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