特許
J-GLOBAL ID:200903023946865600

被処理基板の除電方法,基板処理装置,プログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大山 浩明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-087580
公開番号(公開出願番号):特開2006-269854
出願日: 2005年03月25日
公開日(公表日): 2006年10月05日
要約:
【課題】 被処理基板に対する処理が正常終了した場合のみならず,被処理基板に対する処理が正常終了していない場合においても,被処理基板を十分に除電する。【解決手段】 載置台例えば下部電極120の静電チャック122に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板例えばウエハWを,静電チャック122から脱離する場合に除電処理を行う基板処理装置であって,ウエハWの除電を行う前にウエハWに対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し,正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段からの正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し,正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段からの非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し,設定した除電条件に基づいてウエハWの除電処理を実行する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
処理室内に配設された載置台に吸着保持された状態で所定の処理が施される被処理基板を,前記載置台から脱離する場合に行われる被処理基板の除電方法であって, 前記被処理基板の除電を行う前に前記被処理基板に対する所定の処理が正常終了したか否かを判断し,正常終了したと判断した場合は正常時除電条件情報記憶手段に記憶された正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定し,正常終了していないと判断した場合は非正常時除電条件情報記憶手段に記憶された非正常時除電条件情報に基づいて除電条件を設定する除電条件設定工程と, 前記除電条件設定手段により設定した除電条件に基づいて前記被処理基板の除電処理を実行する除電処理実行工程と, を有することを特徴とする被処理基板の除電方法。
IPC (3件):
H01L 21/683 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/306
FI (3件):
H01L21/68 R ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/302 101B
Fターム (26件):
5F004AA06 ,  5F004BA06 ,  5F004BA09 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA02 ,  5F004CA04 ,  5F004CA05 ,  5F004CA09 ,  5F004CB02 ,  5F004DA22 ,  5F004DA25 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA16 ,  5F031HA33 ,  5F031HA35 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031PA06 ,  5F031PA30
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • プラズマ処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-237747   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
  • プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-072575   出願人:株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社, 日立テクノエンジニアリング株式会社
審査官引用 (4件)
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