薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及び亜鉛化合物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽鳥修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-271707
公開番号（公開出願番号）：特開2008-088511
出願日： 2006年10月03日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】薄膜に亜鉛を供給するプレカーサに対して、好適な反応性及び揮発性等の性質を付与することにあり、特にCVD法における酸化による薄膜製造に好適な反応性及び揮発性等の性質を付与すること。【解決手段】下記一般式(1)で表される亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料。(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2及びR3は、各々独立して水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、R4は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4のアルキル基または-CH2-CH2-NR6R7を表し、R6及びR7は炭素数1〜4のアルキル基を表し、Xは、酸素原子または窒素原子を表し、mは、Xが酸素原子の場合は0であり、Xが窒素原子の場合は1である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料。

IPC (2件)：

C23C 16/40 , C07F 3/06

FI (2件)：

C23C16/40 , C07F3/06

Fターム (10件)：

4H048AA01 , 4H048AA03 , 4H048AB78 , 4H048VA67 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030AA16 , 4K030BA47 , 4K030CA05 , 4K030FA10

引用特許：

出願人引用 (3件)

特公平6-64738号公報(特に、[請求項9])
酸化亜鉛光触媒薄膜の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-044216 出願人：独立行政法人物質・材料研究機構
薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-175122 出願人：旭電化工業株式会社

審査官引用 (5件)

化学気相成長用原料及び薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-155543 出願人：旭電化工業株式会社
特開昭61-287032
金属錯体を原料とする試薬
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-501754 出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド

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