特許
J-GLOBAL ID：200903024407787481
イオン注入装置及びイオン注入方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池田 憲保
, 福田 修一
, 佐々木 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-103194
公開番号（公開出願番号）：特開2008-262756
出願日： 2007年04月10日
公開日（公表日）： 2008年10月30日
要約：
【課題】 イオンビームの高速退避、一時的退避を、イオンビームのビーム径や断面形状にかかわりなくかつ周辺部材に影響を及ぼすことなく実現できるようにしたイオン注入装置を提供する。【解決手段】 質量分析磁石装置22の出口から質量分析スリット28手前のビームライン区間に配置されて電界の作用によりイオンビームをビームライン上から外れた所定の向きに偏向させる偏向手段としてパーク電極26を備える。イオンビームが所望の条件を満足しない時にはパーク電極26にパーク電圧が印加され、これによりイオンビームはビームラインから偏向されて退避状態におかれる。その結果、イオンビームは質量分析スリット28を通過できなくなるので、イオンビームはウェハ58に到達せず、条件を満たさないイオンビームがウェハに照射されることは無い。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
イオン源から引き出されたイオンビームを、質量分析磁石装置及びその下流側に配置された質量分析スリットを経由させてウェハに照射することによりイオン注入を行うビームラインを有するイオン注入装置において、
前記質量分析磁石装置の出口から前記質量分析スリット手前または前記質量分析スリット後側のビームライン区間に配置されて電界の作用によりイオンビームをビームライン上から外れた所定の向きに偏向させる偏向装置を備え、
該偏向装置により必要に応じてイオンビームをビームラインから退避させる高速退避とこの退避状態を所定時間維持する一時的退避とを行うことができるようにしたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01J 37/147
, H01J 37/244
H01J37/317 C
, H01J37/317 A
, H01J37/147 D
, H01J37/244
5C033NN08
, 5C033NP03
, 5C034CC05
, 5C034CD04
, 5C034CD07
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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