特許
J-GLOBAL ID：200903024415878437
フォトマスクの幾何形状を改良する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-560740
公開番号（公開出願番号）：特表2003-523542
出願日： 2001年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月05日
要約：
【要約】フォトマスクの製造は、孤立フィーチャ(300)に対して補助バー(320、340)を加えることによって改善される。バー(320、340)は、密集詰め込みフィーチャの中心から中心への間隔に相当する、中心から中心への間隔に加えられる。補助バーを密集詰め込みフィーチャに整合させることによって、孤立フィーチャの組み合わされた回折パターンは変形して、密集詰め込みフィーチャの回折パターンによく似たものとなる。
請求項（抜粋）：
集積回路(IC)に対応するリソグラフィのパターンを、フォトマスクから半導体基板上に光学的に転写するためのフォトマスクにおいて、前記パターンが、複数の密集間隔フィーチャと、密集間隔フィーチャから間隔をおいて配置された孤立フィーチャとを含み、前記孤立フィーチャが、前記孤立フィーチャの相対する辺に、補助バーに向かい合う孤立フィーチャの相当辺から等間隔に配置された、少なくとも1対の補助バーを有し、補助バーが孤立フィーチャ縁部の縁部強度勾配を変えて近接効果を低減させるフォトマスクであって、 密集間隔フィーチャのピッチに応じて、補助バーを間隔をおいて配置することを含む改良型のフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 P
2H095BA07
, 2H095BB02
, 2H095BB36
