特許
J-GLOBAL ID：200903024440494643
鉛フリーの無電解スズ合金メッキ浴及びメッキ方法、並びに当該無電解メッキ浴で鉛を含まないスズ合金皮膜を形成した電子部品
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
豊永 博隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-197771
公開番号（公開出願番号）：特開平11-021673
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：
【要約】【課題】 スズ合金皮膜の接合強度や耐食性に優れ、析出速度が速い鉛フリーの無電解メッキ浴を開発する。【解決手段】 (A)?@第一スズ塩と、?Aビスマス、インジウム、アンチモン、亜鉛、コバルト、ニッケル、銀、銅、鉛の少なくとも一種の金属の塩との可溶性金属塩の混合物、(B)有機スルホン酸などの酸、(C)錯化剤を含有する鉛フリーの無電解スズ合金メッキ浴において、(A)-?Aの特定金属の組成比が総量で3重量%以上になるように浴を調整したメッキ浴である。無電解メッキ浴には鉛を含まないので、健康や環境への悪影響が少ない。また、特定金属の析出皮膜中の組成比が3重量%以上であるため、スズ合金皮膜より接合強度、耐食性に優れ、浴の析出速度も速い。
請求項（抜粋）：
(A)?@第一スズ塩と、?Aビスマス、インジウム、アンチモン、亜鉛、コバルト、ニッケル、銀、銅から成る群より選ばれた少なくとも一種の金属の塩との可溶性金属塩の混合物、(B)有機スルホン酸、カルボン酸などの有機酸、或は塩酸、硫酸、ホウフッ化水素酸などの無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸、(C)錯化剤を含有して成り、スズと合金を生成する(A)-?Aの金属の組成比が総量で3重量%以上の、鉛を含まないスズ合金皮膜を形成するように、浴を調整可能にしたことを特徴とする鉛フリーの無電解スズ合金メッキ浴。
IPC (3件)：
C23C 18/48
, C23C 18/31
, H01L 21/60 311
C23C 18/48
, C23C 18/31 Z
, H01L 21/60 311 W
