特許
J-GLOBAL ID：200903024462129825
放射線放出するプラズマを基礎にして極紫外放射線を発生させるための方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-018882
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297741
出願日： 2003年01月28日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ発生のための技術的及び金銭的な負担が実質的に増加されず、EUV源の放出出力がシリコンのL吸収端よりも高い波長領域内で増加される、放射線放出するプラズマを基礎にして極紫外放射線を発生させるための新たな可能性を見つけること。【解決手段】 真空条件下でプラズマから広帯域の放射線を放出することにより極紫外放射線を発生させるための方法において、プラズマが、元素の周期系の第5周期の第V〜VII主族の少なくとも1つの元素が関与した素材を使用して発生されること。
請求項（抜粋）：
真空条件下でプラズマから広帯域の放射線を放出することにより極紫外放射線を発生させるための方法において、プラズマが、元素の周期系の第5周期の第V〜VII主族の少なくとも1つの元素が関与した素材を使用して発生されることを特徴とする方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G21K 5/00
, G21K 5/02
, G21K 5/08
, H05H 1/24
, H05G 2/00
G21K 5/00 Z
, G21K 5/02 X
, G21K 5/08 X
, H05H 1/24
, H01L 21/30 531 S
, H05G 1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA07
, 4C092AB30
, 4C092AC09
, 4C092BD20
, 5F046GC03
