特許
J-GLOBAL ID：200903024778350906
フォーカスモニタ用マスク及びフォーカスモニタ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-274701
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100392
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 フォーカス状態からのずれ量及びずれ方向を高精度且つ簡便に検出することができ、露光精度の向上等に寄与し得る。【解決手段】 フォトリソグラフィーによりウェハー上にパターンを転写する際に使用されるマスクであって、フォーカスモニタに供されるフォーカスモニタ用マスクにおいて、遮光膜13で囲まれて菱形の開口部101で形成された複数のモニタパターンを有する第1のパターン領域と、半透明膜12で囲まれて菱形の開口部102で形成された複数のモニタパターンを有する第2のパターン領域とを備えている。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィーによりウェハー上にパターンを転写する際に使用されるマスクであって、遮光部で囲まれて第1の開口部で形成、又は第1の開口部で囲まれて遮光部で形成された少なくとも1つのモニタパターンを有する第1のパターン領域と、半透明膜で囲まれて第2の開口部で形成、又は第2の開口部で囲まれて半透明膜で形成され、第2の開口部を通過する露光光に対して半透明膜を通過する露光光に所定の位相差を与える少なくとも1つのモニタパターンを有する第2のパターン領域とを備え、前記各モニタパターンは、一方向に沿って中央部に対して両端部が細い形状であることを特徴とするフォーカスモニタ用マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/207
, H01L 21/027
G03F 1/08 M
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 526 Z
2H095BB03
, 2H095BE02
, 2H095BE09
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC03
, 5F046DD03
