特許
J-GLOBAL ID：200903024801424475
非干渉光を用いて光学マスターを作成する作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-548145
公開番号（公開出願番号）：特表2002-514776
出願日： 1999年05月07日
公開日（公表日）： 2002年05月21日
要約：
【要約】種々のサイズの光拡散体を廉価に作るために好ましい不規則に分布されたパターンを有する拡散体マスターを作るための改良された方法。この方法は、光学素子を通した非干渉光源(26)を用い、また、マスクパターン(23)を通して好ましい基体25上に被覆したホトレジスト(24)を露光するために用いる。
請求項（抜粋）：
スペックルパターンによって変調されたレーザー光によって写真フィルムを露光し、 この写真フィルムを現像し、 上記写真フィルムを感光性媒体に隣接して配置し、 上記写真フィルムを介して上記感光性媒体を非干渉光によって露光する 工程より成るマスター光学拡散体の作成方法。
IPC (4件)：
G03H 1/20
, G02B 5/02
, G02B 5/32
, G03F 7/20
G03H 1/20
, G02B 5/02 B
, G02B 5/32
, G03F 7/20
2H042BA03
, 2H042BA06
, 2H042BA15
, 2H042BA21
, 2H049CA05
, 2H049CA16
, 2H049CA28
, 2H097AA16
, 2H097AB08
, 2H097BA06
, 2H097CA06
, 2H097CA13
, 2H097CA16
, 2H097CA17
, 2H097GA11
, 2H097GA33
, 2H097JA03
, 2H097LA17
, 2K008BB03
, 2K008FF17
, 2K008GG05
, 2K008HH02
, 2K008HH26
