位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173050
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005167
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】位相シフトマスク上のシフタ残留欠陥を短時間で容易に修正する.【解決手段】超短パルス(10ピコ秒〜50フェムト秒)の紫外レーザ光(波長:200〜360nm)光を用いることにより、位相シフトマスクのシフタ残留欠陥およびCr残留欠陥を下の導電膜層、ガラス基板に影響をおよぼさずに修正することが可能である。

請求項（抜粋）：

位相シフトマスク上のシフタ残留欠陥を、紫外パルスレーザ光を用いて除去することを特徴とする位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , G01J 9/02 , G01N 21/956 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 1/08 T , G03F 1/08 A , G03F 1/08 S , G01J 9/02 , G01N 21/956 A , H01L 21/30 502 P

Fターム (16件)：

2G051AA56 , 2G051AB07 , 2G051BB09 , 2G051BB20 , 2G051CA04 , 2G051CB02 , 2G051CC12 , 2G051DA17 , 2G051DA20 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2H095BB03 , 2H095BD05 , 2H095BD13 , 2H095BD20 , 2H095BD34

引用特許：

審査官引用 (7件)

位相シフトマスクおよびその修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-195770 出願人：富士通株式会社
特開平4-289861
特開昭61-014640

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