特許
J-GLOBAL ID：200903025041365674

リソグラフィー用ペリクル

発明者：
白崎 享

白崎 享 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 荒井 鐘司 ,  河野 尚孝 ,  嶋崎 英一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-188713
公開番号（公開出願番号）：特開2009-025560
出願日： 2007年07月19日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】 本発明は、マスクにペリクルを貼り付けても、マスクに歪みが生じないようにすることを課題とする。【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤が平坦な面を有し、かつその面の平坦度が15μm以下であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤が平坦な面を有し、かつその面の平坦度が15μm以下であることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F1/14 K ,  H01L21/30 502P
Fターム (4件)：
2H095BA02 ,  2H095BC36 ,  2H095BC38 ,  2H095BC39
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭58-219023号公報
  • 米国特許第4861402号明細書
  • 特公昭63-27707号公報
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審査官引用 (5件)
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