特許
J-GLOBAL ID：200903084635372979

ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル

発明者：
関原 一敏

関原 一敏 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-161206
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338722
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】ペリクル膜と膜接着剤との接着力を向上させ、ペリクル膜内の局所的なシワやパーティクルの発生を防止し、さらに高精度でフォトマスクに貼り付けることができるペリクルフレームを提供する。【解決手段】上端面及び下端面を有するペリクルフレームであって、前記上端面及び下端面のうち少なくとも一つの端面の全周に連続して凹状の溝が設けられていることを特徴とするペリクルフレーム。及び、上記ペリクルフレームを具備し、前記凹状の溝にペリクル膜接着剤及び/またはマスク粘着剤が塗布もしくは充填され、前記ペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が貼り付けられているものであることを特徴とするフォトリソグラフィー用ペリクル。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
上端面及び下端面を有するペリクルフレームであって、前記上端面及び下端面のうち少なくとも一つの端面の全周に連続して凹状の溝が設けられていることを特徴とするペリクルフレーム。
IPC (2件)：
G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F1/14 K ,  H01L21/30 502P
Fターム (2件)：
2H095BC36 ,  2H095BC38
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭58-219023号公報
  • 米国特許第4861402公報
  • 特開昭63-27707号公報
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審査官引用 (7件)
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