特許
J-GLOBAL ID:200903025126599569

プラズマ処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-243557
公開番号(公開出願番号):特開2000-077389
出願日: 1998年08月28日
公開日(公表日): 2000年03月14日
要約:
【要約】【課題】 ウエハが割れ易い材料の場合にも割れやウエハ破壊を防止できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 ウエハカセット3の下にトレーカセット1を配置したカセット昇降ステージ部5と、ウエハ4とトレー2の両方を搬送できる大気側ハンドリングアーム6と、ウエハ受け渡し時にウエハ4を突き上げる突き上げピン9が上昇できるようにトレー2の回転位置を決定するための機能とウエハ4をトレー2のセンターに置けるようにセンター出しを行うウエハセンタリング機能とを有する組合せステーション7とを備え、ウエハ4をトレー2に載せて搬送及び処理を行うようにした。
請求項(抜粋):
トレー上にウエハを載せる工程と、ウエハをトレーに載せた状態で処理室内に搬送してプラズマ処理を行う工程とを備えたことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  H01L 21/68
FI (2件):
H01L 21/302 B ,  H01L 21/68 A
Fターム (14件):
5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB15 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004DB08 ,  5F004EB02 ,  5F004FA08 ,  5F031BB01 ,  5F031CC12 ,  5F031EE12 ,  5F031KK06 ,  5F031LL02
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (10件)
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