特許
J-GLOBAL ID：200903025529124447
異元素含有シリカゲル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-338923
公開番号（公開出願番号）：特開2003-221220
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2003年08月05日
要約：
【要約】【課題】 細孔容積及び比表面積が大きいだけでなく、細孔分布が狭く、有用なドープ元素を所望量含有できると共に、不要な金属不純物量を抑えることができ、且つ耐熱性や耐水性等にも優れるようにする。【解決手段】 (a)細孔容積が0.3〜1.6ml/g、(b)比表面積が200〜900m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の30%以上、(e)アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群に属する元素の総含有率が300ppm以下、(f)周期表の13族,14族及び15族並びに遷移金属からなる群に属する元素のうち、少なくとも一種類の元素の含有率が0.1%以上となるようにする。
請求項（抜粋）：
(a)細孔容積が0.3〜1.6ml/gであり、(b)比表面積が200〜900m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の30%以上であり、(e)アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群に属する元素の総含有率が300ppm以下であり、且つ、(f)周期表の13族,14族及び15族並びに遷移金属からなる群に属する元素のうち、少なくとも一種類の元素の含有率が0.1%以上であることを特徴とする、異元素含有シリカゲル。
Fターム (18件)：
4G072AA35
, 4G072AA38
, 4G072BB05
, 4G072CC10
, 4G072HH30
, 4G072JJ09
, 4G072KK06
, 4G072KK07
, 4G072MM01
, 4G072PP05
, 4G072RR05
, 4G072SS14
, 4G072TT01
, 4G072TT05
, 4G072TT09
, 4G072TT19
, 4G072TT20
, 4G072UU15
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (1件)
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