特許
J-GLOBAL ID：200903025687773290

基板の湿式洗浄方法及び装置

発明者：
稲垣 靖史

稲垣 靖史 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369632
公開番号（公開出願番号）：特開2002-172366
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
要約：
【要約】【課題】 有効成分としてフッ化水素酸を水に溶解した洗浄液を使用する、エッチングによる基板の湿式洗浄技術において、洗浄処理を均一・安定化とともに、洗浄液調製用薬品の消費量を低減する。【解決手段】 基板洗浄装置10では、洗浄ドラフト11内に洗浄槽12と、この洗浄槽上端部近傍に湿度計13とを設ける。洗浄槽の直上に加湿機14および空調機15を設け、この空調機のエアー流入側に除塵フィルタ16を連結し、湿度計13を加湿機14に連絡し、除塵フィルタのエアー流入側をブロワに連絡する。洗浄ドラフトに連結した排気ダクト17にオートダンパ18と、その下流側に風速計19とを設け、この風速計をオートダンパの開度調整用駆動機構に連絡する。基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。
請求項（抜粋）：
有効成分を水に溶解してなる洗浄液を、洗浄ドラフト内に設けた洗浄槽に貯留し、該洗浄液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄ドラフト内にクリーンエアーを流しながら洗浄する方法において、加湿により相対湿度を所定範囲内に制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気しながら被洗浄基板の洗浄を行うことを特徴とする基板の湿式洗浄方法。
IPC (6件)：
B08B 3/08 ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306
FI (6件)：
B08B 3/08 Z ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/306 J
Fターム (21件)：
3B201AA03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  4K057WA01 ,  4K057WB06 ,  4K057WE07 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043AA31 ,  5F043BB27 ,  5F043DD30 ,  5F043EE10 ,  5F043EE28 ,  5F043EE37
引用特許：
審査官引用 (4件)
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