特許
J-GLOBAL ID:200903025729179840

透過型光学素子及びその製造方法、並びに投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 福田 充広 ,  藤本 芳洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-165868
公開番号(公開出願番号):特開2005-099707
出願日: 2004年06月03日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 耐摩耗性を有する反射防止層を備えるとともに高NA化に対応することができる透過型光学素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 スパッタ粒子SPがマスクとなって反応ガスのイオンGIによる光学部材OWのエッチングが進行し、スパッタ粒子SPの位置に対応してコーン状の突起CPが無数に形成される。このような突起CPからなる微細針状構造は、巨視的な意味で反射防止層ARを形成するので、反射防止層ARを有する光学部材OWすなわち光学素子を製造することができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
透過型光学素子の母材としての基板を準備する工程と、 所定のエッチガスを用いてランダムに配置された無数の点状微細エリア以外をドライエッチすることによって、前記基板の表面上に反射防止層として機能する微細針状構造を形成する工程と、 を備える透過型光学素子の製造方法。
IPC (3件):
G02B1/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (3件):
G02B1/10 A ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D
Fターム (9件):
2H097LA10 ,  2K009AA01 ,  2K009AA12 ,  2K009BB02 ,  2K009BB04 ,  2K009DD04 ,  2K009DD12 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開2001-823914号公報
審査官引用 (2件)

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