特許

J-GLOBAL ID：200903025815962581

ウエハ保持治具

発明者： 安田 裕之 ,  三島 篤司
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-229790
公開番号（公開出願番号）：特開2002-036102
出願日： 2000年07月28日
公開日（公表日）： 2002年02月05日
要約：

【要約】【課題】 発熱を伴うウエハの加工に用いても、その熱伝導率が高いため良好に放熱を行うことができ、また、その内部に熱応力が生じないため反りが発生しない形状安定性に優れるウエハ保持治具を提供する。【解決手段】 真空又は減圧を利用して、ウエハを保持面に吸着、保持するウエハ保持治具であって、上記ウエハ保持治具は、主に、溶融金属が含浸された金属-多孔質セラミック複合体からなり、上記保持面の下には、ウエハ接触部分の外縁部分を除いて金属を含浸しない多孔質セラミック層が形成されるとともに、上記保持面の裏面から上記多孔質セラミック層に貫通する吸引孔が設けられていることを特徴とするウエハ保持治具。

請求項（抜粋）：

真空又は減圧を利用して、ウエハを保持面に吸着、保持するウエハ保持治具であって、前記ウエハ保持治具は、主に、溶融金属が含浸された金属-多孔質セラミック複合体からなり、前記保持面の下には、ウエハ接触部分の外縁部分及びその外側を除いて溶融金属が含浸されていない多孔質セラミック層が形成されるとともに、前記保持面の裏面から前記多孔質セラミック層に貫通する吸引孔が設けられていることを特徴とするウエハ保持治具。

IPC (5件)：

B24B 37/04 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

B24B 37/04 H ,  B23Q 3/08 A ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/306 M

Fターム (14件)：

3C016DA05 ,  3C058AB01 ,  3C058AB04 ,  3C058AB06 ,  3C058DA17 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA13 ,  5F031MA22 ,  5F043DD16 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ウエハチヤツク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-210444   出願人：キヤノン株式会社
• 真空チャックの吸着板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-031680   出願人：シーケーディ株式会社
• 中空セラミックスプレート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-144091   出願人：住友金属工業株式会社
• ウエーハ保持治具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357981   出願人：信越半導体株式会社, 長野電子工業株式会社