特許
J-GLOBAL ID:200903025983301680

成膜装置及び成膜装置用噴射弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西村 竜平 ,  佐藤 明子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-290672
公開番号(公開出願番号):特開2009-114521
出願日: 2007年11月08日
公開日(公表日): 2009年05月28日
要約:
【課題】膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができ、さらに、大面積の基板2であっても均一な膜をスループット良く成膜することができる。【解決手段】基板2を内部に収容する成膜室3と、その基板2から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室3内に液体状態で噴射する噴射弁4と、を備えてなり、噴射弁4に設けられた噴射孔Hの横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、噴射孔Hの拡開角度θOが、180°以下であり、Hの短手方向の側面H1とその側面H1に連続する噴射弁内面41B1とのなす角度が、0°より大きく90°未満である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、 前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、 前記噴射孔の拡開角度が、180°以下であり、 前記噴射孔の短手方向の側面と、当該側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度が、0°より大きく90°未満である成膜装置。
IPC (1件):
C23C 16/448
FI (1件):
C23C16/448
Fターム (8件):
4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)
  • 成膜装置及び成膜方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-333346   出願人:学校法人同志社, 株式会社堀場製作所, 株式会社堀場エステック
引用文献:
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