感光性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 栗宇百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-049203
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004576
出願日： 2003年02月26日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】下記一般式(Z)で表される基を少なくとも2つ有する繰り返し単位(A1)を含有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂と、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R50〜R55はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または置換基を有しても良いアルキル基を表わす。ただし、R50〜R55のうち少なくとも1つはフッ素原子または少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基である。Rは水素原子または有機基を表わす。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(Z)で表される基を少なくとも2つ有する繰り返し単位(A1)を含有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂と、 (B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有する感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 , C08F212/14 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F212/14 , H01L21/30 502R

Fターム (64件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J100AA20Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AC21Q , 4J100AC22Q , 4J100AC26Q , 4J100AC27Q , 4J100AC34Q , 4J100AD07Q , 4J100AL08Q , 4J100AM02Q , 4J100AM03Q , 4J100AR11Q , 4J100AR22Q , 4J100AR32Q , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA06P , 4J100BA06Q , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA22P , 4J100BA22Q , 4J100BA40Q , 4J100BB01P , 4J100BB01Q , 4J100BB03P , 4J100BB03Q , 4J100BB07Q , 4J100BB13Q , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC43Q , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100DA65 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

パターン形成材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-117688 出願人：松下電器産業株式会社
含フッ素共重合体を用いたポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-010909 出願人：セントラル硝子株式会社
フォトレジスト用高分子化合物、単量体化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-295012 出願人：株式会社東芝

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