特許
J-GLOBAL ID:200903026557488086
環式スルホニウム及びスルホキソニウムフォト酸生成剤及びそれを含むフォトレジスト
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-293924
公開番号(公開出願番号):特開2003-195489
出願日: 2002年10月07日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】248nm、193nm及び157nmのような短波長においてイメージされるフォトレジストのフォト活性成分として特に有用な新規フォト酸生成剤化合物(「PAG」)及び斯かる化合物を含むフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】環式基,好ましくは脂環式(非芳香族)基の環構成員であるスルホニウム(即ちS+)又はスルホキソニウム(即ちS(O)+)カチオンを含有する,新規な環式スルホニウム及びスルホキソニウムフォト酸生成化合物(PAG)と斯かる化合物を含むフォトレジスト組成物。
請求項(抜粋):
樹脂及び次式Iのフォト酸生成剤化合物を含むフォトレジスト組成物:【化1】ここで、Rは非水素置換基又はRは他のフォト酸生成剤部位への結合であり;Y及びZはそれぞれが独立して水素又は非水素置換基であり;又はY及び/又はZの二つは一緒になって縮合環を形成し;nは3から8の整数であり;及びXは対アニオンである、但し、Y及びZ双方が同一環炭素上のC1〜4アルキルである場合を除く。
IPC (4件):
G03F 7/004 503
, C08F212/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/004 503 A
, C08F212/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (21件):
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AB02Q
, 4J100AB07P
, 4J100AK32S
, 4J100AL08R
, 4J100AR11S
, 4J100BA03P
, 4J100BC09R
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
引用特許:
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