特許
J-GLOBAL ID：200903026694029528

標識材料を検出するシステムおよび方法

発明者：
スターン,デイビッド

スターン,デイビッド について


出願人/特許権者：
アフィメトリックス,インコーポレイテッド

アフィメトリックス,インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-541141
公開番号（公開出願番号）：特表2000-512744
出願日： 1997年05月15日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：
【要約】サンプルの標識された領域を供給源(102)からの放射に曝し、そこからの発光を検出し(140、126)、サンプルが完全に検査されるまで露出および検出の工程を繰り返すことによって、ポリマーシーケンスと合成された支持体上の既知の位置にある標識された標的を検出することができる。
請求項（抜粋）：
基板の表面上のマークされた領域を検出するシステムであって、 励起放射源と、 該励起放射源からの放射を該基板の該表面の選択領域上にフォーカシングさせる焦点システムであって、フォーカスされたスポット径に対する走査フィールド径の比が約2000より大きく且つ開口数が約0.2よりも大きい対物レンズを含むフォーカシングシステムと、 該基板の該表面にわたって少なくとも5画像ライン/秒の速度で該フォーカスされた励起放射を走査する放射指向システム(radiation direction system)と、 該励起放射に応答して該基板の該表面からの発光を検出する検出器であって、該対物レンズが該発光を受けて該発光を該検出器に伝送する、検出器と、 該検出された発光の量を、該発光が発せられた該基板の該表面上の位置の関数として記録するデータ取得システム(data acquisition system)と、を備えた、システム。
IPC (2件)：
G01N 21/64 ,  G02B 21/00
FI (3件)：
G01N 21/64 F ,  G01N 21/64 E ,  G02B 21/00
引用特許：
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM