特許
J-GLOBAL ID:200903027089639108
液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法及びそれに用いるフォトマスク
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-306462
公開番号(公開出願番号):特開2006-119327
出願日: 2004年10月21日
公開日(公表日): 2006年05月11日
要約:
【課題】液晶表示装置用基板上にフォトリソグラフィー法によって液晶の配向制御用突起とスペーサー柱を簡便に形成する方法及びそれに用いるフォトマスクを提供する。【解決手段】対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する液晶表示装置用基板の製造方法において、基板上に感光性樹脂組成物層を設ける工程、前記感光性樹脂組成物層を1種類のフォトマスクを介して露光、現像して配向制御用突起とスペーサー柱を同時に形成する工程、を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法とする。このとき、フォトマスクは少なくとも2種類の透過性パターンを有するものであり、該透過性パターンのうち少なくとも1種は365nmにおける透過率が40〜80%以下であることを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する液晶表示装置用基板の製造方法において、
基板上に感光性樹脂組成物層を設ける工程、
前記感光性樹脂組成物層を1種類のフォトマスクを介して露光、現像して配向制御用突起とスペーサー柱を同時に形成する工程、
を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/133
, G02F 1/13
, G09F 9/00
FI (6件):
G02F1/1337 520
, G02F1/13 101
, G02F1/1335 500
, G02F1/1335 505
, G02F1/1339 500
, G09F9/00 338
Fターム (47件):
2H088FA02
, 2H088FA18
, 2H088HA01
, 2H088HA02
, 2H088HA03
, 2H088HA12
, 2H088HA14
, 2H088MA07
, 2H088MA18
, 2H088MA20
, 2H089LA09
, 2H089MA07X
, 2H089NA14
, 2H089QA14
, 2H089QA16
, 2H089TA01
, 2H089TA02
, 2H089TA04
, 2H089TA12
, 2H089TA13
, 2H090HB07Y
, 2H090HC08
, 2H090HC11
, 2H090HC12
, 2H090HD06
, 2H090HD17
, 2H090LA01
, 2H090LA02
, 2H090LA05
, 2H090LA15
, 2H090MA14
, 2H091FA02Y
, 2H091FA35Y
, 2H091FD04
, 2H091GA01
, 2H091GA02
, 2H091GA06
, 2H091GA08
, 2H091LA15
, 2H091LA19
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435CC09
, 5G435FF05
, 5G435HH20
, 5G435KK05
, 5G435KK10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)