特許
J-GLOBAL ID：200903094158367025

液晶表示素子製造用の露光マスク用ブランク及びその製造法並びに露光マスク

発明者：
金山 浩一郎

金山 浩一郎 について

, 
松尾 正

松尾 正 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-316392
公開番号（公開出願番号）：特開2005-084366
出願日： 2003年09月09日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】柱状スペーサーならびに液晶配向機能突起を備えた液晶表示素子用カラーフィルターを製造するにあたり、製造工程の簡略化を図るとともに、製造コストの低減化が可能な露光マスクを提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11上に、反応性スパッタにてTi及びW膜を含む半透過膜21Bを成膜し、さらにCr及び酸化Cr膜からなる遮光膜31を形成した液晶表示素子製造用の露光マスク用ブランク10bを作製する。通常のフォトリソ工程により、開口部41aを有するレジストパターン41を形成し、遮光膜31及び半透過膜21Bをエッチングし、さらに開口部41b’を有するレジストパターンを形成して遮光膜31をエッチングし、レジストパターン41を剥離することにより、マスクパターンP1及びマスクパターンP2を有する本発明の液晶表示素子製造用の露光マスク100bを得る。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
透明基板上に紫外線透過率制御機能を有する半透過膜A、もしくは半透過膜B、もしくは半透過膜Cのいずれかと紫外線遮蔽効果を有する遮光膜とを有し、カラーフィルターにおける柱状スペーサー並びに液晶配向機能突起の一括形成に用いられる液晶表示素子製造用の露光マスクを作製するために用いられる露光マスク用ブランクにおいて、前記半透過膜A、半透過膜B、半透過膜Cの紫外光に対する透過率は、波長300nmで5%以下、波長380nmで45%以上であることを特徴とする液晶表示素子製造用の露光マスク用ブランク。
IPC (6件)：
G03F1/08 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1339 ,  H01L21/027
FI (7件)：
G03F1/08 A ,  G03F1/08 K ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1339 500 ,  H01L21/30 502P
Fターム (29件)：
2H048BA02 ,  2H048BA43 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H089LA09 ,  2H089MA04X ,  2H089NA08 ,  2H089NA13 ,  2H089NA60 ,  2H089PA08 ,  2H089QA12 ,  2H089TA13 ,  2H090HA13 ,  2H090HB07Y ,  2H090HC06 ,  2H090HC11 ,  2H090HC18 ,  2H090MA17 ,  2H090MB11 ,  2H091FA02Y ,  2H091FD04 ,  2H091GA06 ,  2H091GA08 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H095BA12 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (11件)
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