特許
J-GLOBAL ID：200903027095056882

IR/NIR放射を使用して有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの層を乾燥する方法

発明者：
シュタイガー、ユルゲン

シュタイガー、ユルゲン について

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ホイン、スザンネ

ホイン、スザンネ について

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フェストヴェバー、ホルスト

フェストヴェバー、ホルスト について

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ヴィーナー、マンフレッド

ヴィーナー、マンフレッド について

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マテウス、アンドレア

マテウス、アンドレア について


出願人/特許権者：
コヴィオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー

コヴィオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー について


代理人 (1件)： 藤本 英介
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-541077
公開番号（公開出願番号）：特表2005-508515
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】本発明は、有機半導体、有機導電体および/または有機カラーフィルターを含む薄層を乾燥し、続いてこれを処理する方法に関する。【解決手段】この方法は、有機発光ダイオード(PLED’s)、有機集積回路(O-IC’s)、有機電界トランジスタ(OFET’s)、有機薄膜トランジスタ(OTFT’s)、有機太陽電池(O-SC’s)、有機レーザ・ダイオード(O-レーザ)、液晶表示装置のための有機カラーフィルターまたは有機感光体の生成に使用される。
請求項（抜粋）：
有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの薄層を生成する方法において、 (a)少なくとも一つの有機半導体、有機導電体ないし有機カラーフィルターを含む溶液または分散液を基板へ溶着するステップと、 (b)ステップ(a)によって生成された湿潤フィルムをIRおよび/またはNIR放射によって乾燥させるステップと、 を備え、 放射がステップ(b)で使用され、放射エネルギーの少なくとも80%が700から2000nmの範囲にあることを特徴とする有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの薄層を生成する方法。
IPC (6件)：
G02B5/20 ,  B05D3/02 ,  H01L51/00 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14
FI (6件)：
G02B5/20 101 ,  B05D3/02 E ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A ,  H01L29/28
Fターム (18件)：
2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB41Z ,  4D075BB94Z ,  4D075BB95Z ,  4D075BB96Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EC30
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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