特許
J-GLOBAL ID:200903027095056882
IR/NIR放射を使用して有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの層を乾燥する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 英介
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-541077
公開番号(公開出願番号):特表2005-508515
出願日: 2002年10月25日
公開日(公表日): 2005年03月31日
要約:
【課題】本発明は、有機半導体、有機導電体および/または有機カラーフィルターを含む薄層を乾燥し、続いてこれを処理する方法に関する。【解決手段】この方法は、有機発光ダイオード(PLED’s)、有機集積回路(O-IC’s)、有機電界トランジスタ(OFET’s)、有機薄膜トランジスタ(OTFT’s)、有機太陽電池(O-SC’s)、有機レーザ・ダイオード(O-レーザ)、液晶表示装置のための有機カラーフィルターまたは有機感光体の生成に使用される。
請求項(抜粋):
有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの薄層を生成する方法において、
(a)少なくとも一つの有機半導体、有機導電体ないし有機カラーフィルターを含む溶液または分散液を基板へ溶着するステップと、
(b)ステップ(a)によって生成された湿潤フィルムをIRおよび/またはNIR放射によって乾燥させるステップと、
を備え、
放射がステップ(b)で使用され、放射エネルギーの少なくとも80%が700から2000nmの範囲にあることを特徴とする有機半導体、有機導電体または有機カラーフィルターの薄層を生成する方法。
IPC (6件):
G02B5/20
, B05D3/02
, H01L51/00
, H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
FI (6件):
G02B5/20 101
, B05D3/02 E
, H05B33/10
, H05B33/12 E
, H05B33/14 A
, H01L29/28
Fターム (18件):
2H048BA11
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 3K007AB18
, 3K007BB06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 4D075BB24Z
, 4D075BB41Z
, 4D075BB94Z
, 4D075BB95Z
, 4D075BB96Z
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 4D075EC30
引用特許:
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