特許
J-GLOBAL ID:200903027159239307

液体導入プラズマ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 河西 祐一 ,  松山 允之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-010782
公開番号(公開出願番号):特開2006-202541
出願日: 2005年01月18日
公開日(公表日): 2006年08月03日
要約:
【課題】プラズマの生成安定性を向上するプラズマ装置を提供すること。 【解決手段】プラズマ発生室でプラズマを生じさせる液体導入プラズマ装置において、噴霧ガスにより噴霧口36からプラズマ発生室2内に液体を噴霧する噴霧装置3と、噴霧装置の噴霧口36付近の周囲にあり、プラズマ発生室2に噴霧された液体の周囲を包囲する包囲ガス44を吹き出し口41から吹き出す包囲ガス導入管4とを備え、包囲ガスにより噴霧された液体を包囲して、噴霧された液体の拡散を防ぐ、液体導入プラズマ装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
プラズマ発生室でプラズマを生じさせる液体導入プラズマ装置において、 噴霧ガスにより噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置と、 噴霧装置の噴霧口付近の周囲にあり、プラズマ発生室に噴霧された液体の周囲を包囲する包囲ガスを吹き出し口から吹き出す包囲ガス導入管とを備え、 包囲ガスにより噴霧された液体を包囲して、噴霧された液体の拡散を防ぐ、液体導入プラズマ装置。
IPC (1件):
H05H 1/42
FI (1件):
H05H1/42
Fターム (3件):
4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030FA01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
  • ICP分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-009358   出願人:株式会社島津製作所
  • 高周波誘導結合プラズマ分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-295030   出願人:横河アナリティカルシステムズ株式会社
  • 原子吸光分光光度計
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-362598   出願人:株式会社島津製作所
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