特許
J-GLOBAL ID：200903073655521634

ICP分析装置

発明者：
平野 智之

平野 智之 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 喜多 俊文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-009358
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215042
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 溶液試料を霧化する噴霧室の温度変動を抑え、経済的でデータ変動の少ないICP分析装置を提供する。【解決手段】 アルゴンガス流量制御部1aからクーラントガスが噴霧室空冷部4bに流され、噴霧室4aが冷却され温度変動が抑制される。高周波電源5からコイル6に高周波電流が流され電磁誘導によってプラズマが発生する。そして試料2がキャリアガスと共にネブライザ4cから噴霧室4aで霧化され、一定の流量で石英管7aの先端からプラズマ中心(E)に送り込まれる。噴霧室空冷部4bからのクーラントガスが、プラズマトーチ7の石英管7cに送られ、補助ガスが石英管7bに送られ、プラズマトーチ7の先端でプラズマが発生し、その発光が分光器8で分光され、データ処理部9のデータが表示部10で表示される。
請求項（抜粋）：
溶液試料をキャリアガスと共に試料霧化部の噴霧室空冷部によって温度変動が抑えられた噴霧室のネブライザから噴霧して霧化し、三重パイプ構造のプラズマトーチの中央部に導入し、中間パイプから補助ガスと共に、外側パイプからのクーラントガスで囲んでプラズマトーチの先端部に導入し、前記プラズマトーチの先端部に設けられ高周波電源に接続されたコイルに高周波電流を流し電磁誘導によって試料ガスをプラズマ放電させ、その発光、又はイオンを用いて試料に含まれる元素の分析を行うICP分析装置において、前記試料霧化部の噴霧室空冷部に温度変動がない装置に使用されるガスを導入して噴霧室の温度変動を抑制したことを特徴とするICP分析装置。
IPC (2件)：
G01N 21/73 ,  G01N 27/62
FI (2件)：
G01N 21/73 ,  G01N 27/62 F
Fターム (11件)：
2G043AA01 ,  2G043CA03 ,  2G043EA08 ,  2G043FA06 ,  2G043GA19 ,  2G043GB07 ,  2G043GB09 ,  2G043HA01 ,  2G043JA04 ,  2G043LA02 ,  2G043MA03
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • ICP分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-202302   出願人：株式会社島津製作所
  • 特開昭63-163146
  • 特開昭63-168538
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