超臨界乾燥装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234387
公開番号（公開出願番号）：特開2001-060575
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】容器の熱容量を大幅に小さくすることができると共に、圧力を保持する為の機構も比較的容易に達成することのでき、しかも溶媒が高熱部分に接触して爆発する危険性を回避できる様な超臨界乾燥装置の構造を提供する。【解決手段】温度と圧力により超臨界状態を制御して被処理物を乾燥する超臨界乾燥装置において、温度制御装置を備えた超臨界溶媒収納容器を外部容器内に配置し、外部容器内圧力を介して超臨界溶媒収納容器内の圧力を制御する様に構成したものである。

請求項（抜粋）：

温度と圧力により超臨界状態を制御して被処理物を乾燥する超臨界乾燥装置において、温度制御装置を備えた超臨界溶媒収納容器を外部容器内に配置し、外部容器内圧力を介して超臨界溶媒収納容器内の圧力を制御する様に構成したものであることを特徴とする超臨界乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/316

FI (2件)：

H01L 21/304 651 Z , H01L 21/316 G

Fターム (7件)：

5F058BA20 , 5F058BF25 , 5F058BF46 , 5F058BF58 , 5F058BG01 , 5F058BG03 , 5F058BG04

引用特許：

審査官引用 (5件)

高圧微少流量発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-353937 出願人：バブコック日立株式会社
超臨界乾燥用の圧力容器
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-121376 出願人：工業技術院長
超臨界流体洗浄方法及び超臨界流体洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-018772 出願人：シャープ株式会社

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