電極アッセンブリ及びプラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：別役重尚 , 村松聡 , 後藤夏紀 , 池田浩 , 二宮浩康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-182479
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005491
出願日： 2005年06月22日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】電極板の破損を防止できると共に、部品点数の増加を防止してメンテナンス性の悪化を防止できる電極アッセンブリを提供する。【解決手段】プラズマ処理装置1は外側上部電極23と内側上部電極24とで構成される上部電極22を備え、内側上部電極24は、半導体材料からなる上部電極板32と、表面にアルマイト処理が施されたアルミニウムからなるC/P34と、上部電極板32及びC/P34の間に介在し、半導体材料からなるスペーサー37と、電極支持体33とからなる上部電極アッセンブリを有し、該上部電極アッセンブリにおいて、上部電極板32を貫通する電極板ガス通気孔32a、スペーサー37を貫通するスペーサーガス通気孔37a及びC/P34を貫通するC/Pガス通気孔34aは同一直線上に配置されず、ラビリンスを構成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置が備える、電極板及び中間部材からなる電極アッセンブリであって、前記電極板は該電極板を貫通する第1のガス通気孔を有し且つ前記中間部材は該中間部材を貫通する第2のガス通気孔を有する電極アッセンブリにおいて、前記電極板及び前記中間部材の間に介在して配置されるスペーサーを備え、該スペーサーは、前記第2のガス通気孔から前記第1のガス通気孔へ処理ガスを通過させると共に、前記第1のガス通気孔に侵入したプラズマが前記第2のガス通気孔へ侵入するのを防止することを特徴とする電極アッセンブリ。

IPC (4件)：

H01L 21/306 , H01L 21/205 , C23C 16/455 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L21/302 101G , H01L21/205 , H01L21/302 101M , C23C16/455 , H05H1/46 M

Fターム (16件)：

4K030EA03 , 4K030EA05 , 4K030KA17 , 4K030KA46 , 5F004AA16 , 5F004BA09 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BB28 , 5F045AA08 , 5F045BB08 , 5F045EF05 , 5F045EH13 , 5F045EJ09 , 5F045EJ10

引用特許：

出願人引用 (1件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-154844 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (6件)

分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置ならびに電極交換方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-039749 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-358432 出願人：東京エレクトロン株式会社
エッチング装置及びその運転方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-166888 出願人：株式会社日立製作所

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