特許
J-GLOBAL ID：200903027346066521

真空熱処理炉

発明者：
十良澤 英寿

十良澤 英寿 について

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横瀬 敬二

横瀬 敬二 について

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虻川 文隆

虻川 文隆 について

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高橋 淳

高橋 淳 について

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海老原 寿

海老原 寿 について


出願人/特許権者：
同和鉱業株式会社

同和鉱業株式会社 について


代理人 (1件)： 澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-168471
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357389
出願日： 2001年06月04日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】真空浸炭処理をする場合、炉構成材料の浸炭による劣化を防ぎ、かつ被処理品に対する熱エネルギー効率を高めた真空熱処理炉を提供する。【解決手段】真空熱処理炉は、炉殻1と、その内側に配置されたケーシング2と、さらにその内側に配置された厚板状または多層状のアルミナ・シリカ系セラミックファイバーブランケット3,4と、薄板状のアルミナ系セラミック複合材5とによって形成した断熱層と、この断熱層によって囲まれる加熱室内に配置されたヒーター7よりなる。加熱室内には被処理品の昇温・降温時及び熱処理時に、雰囲気ガスを強制対流するための高強度炭素繊維で形成されるファン8、被処理品搬送用のローラー11、ローラー表面を保護するための交換容易なトレイガイド12、高強度炭素繊維で形成された被処理品の位置検出用フラッパー13を備えている。
請求項（抜粋）：
炉殻と、この炉殻内に配置されたケーシングと、このケーシングの内側に配置した厚板状のアルミナ・シリカ系セラミックファイバーブランケットと、薄板状のアルミナ系セラミック材とによって形成される断熱層と、この断熱層によって囲まれる加熱室内に配置されたヒータ-とより成ることを特徴とする真空熱処理炉。
IPC (7件)：
F27B 9/04 ,  C21D 1/00 111 ,  F27B 5/05 ,  F27B 9/24 ,  F27D 1/00 ,  F27D 7/04 ,  C23C 8/20
FI (7件)：
F27B 9/04 ,  C21D 1/00 111 ,  F27B 5/05 ,  F27B 9/24 R ,  F27D 1/00 G ,  F27D 7/04 ,  C23C 8/20
Fターム (35件)：
4K028AA01 ,  4K028CE06 ,  4K034AA16 ,  4K034CA06 ,  4K034DB02 ,  4K034DB03 ,  4K034EA12 ,  4K034EB03 ,  4K034EB08 ,  4K034GA01 ,  4K034GA11 ,  4K050AA02 ,  4K050BA02 ,  4K050CB07 ,  4K050CC02 ,  4K050CC07 ,  4K050CC08 ,  4K050CF06 ,  4K050CF16 ,  4K050CG05 ,  4K050EA03 ,  4K051AA04 ,  4K051BC01 ,  4K061AA01 ,  4K061BA02 ,  4K061CA19 ,  4K061EA02 ,  4K061EA08 ,  4K061FA12 ,  4K063AA05 ,  4K063AA16 ,  4K063BA02 ,  4K063CA01 ,  4K063CA05 ,  4K063DA28
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (13件)
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