静電チャックステージ及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-215854
公開番号（公開出願番号）：特開平10-032239
出願日： 1996年07月12日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置に用いられるシリコンウェハ固定用の静電チャックステージ、特に高温下で使用可能な静電チャックステージを提供する。【解決手段】静電チャック用セラミックス焼結体プレートと、セラミックとアルミニウムとの複合材プレートとを接合した静電チャックステージを提供する。

請求項（抜粋）：

静電チャック用セラミックス焼結体プレートと、セラミックとアルミニウムとの複合材プレートとを接合したことを特徴とする静電チャックステージ。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , B25J 15/06

FI (2件)：

H01L 21/68 R , B25J 15/06 S

引用特許：

審査官引用 (6件)

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