走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-133202
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320933
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】走査露光に際して、相対的な回転等も考慮してレチクルとウエハとの位置合わせを高い追従速度で高精度に行うと共に、重ね合わせ誤差を低減する。【解決手段】速度指令発生手段15bからの指令に応じてウエハステージ制御系16はウエハステージを駆動し、干渉計7で計測されるウエハステージの4軸の座標WX1,WX2,WY1,WY2、及び干渉計14で計測されるレチクルステージの3軸の座標RX,RL,RRが演算手段15cに供給される。演算手段15cは、ウエハステージの4軸の座標ベクトルに、レチクルとウエハとの相対回転角の関数等を要素とする変換行列を乗じて得られる目標座標から、現在のレチクルステージの座標を減算して求めた誤差ベクトル量を予め設定された転写位置の誤差に基づいた補正ベクトル量で補正し、この補正結果に基づいて、レチクルステージ制御系17はレチクルステージの位置、及び回転角を補正する。

請求項（抜粋）：

転写用パターンの形成されたマスクを移動するマスクステージと、前記マスクのパターンが転写される感光性の基板を移動する基板ステージとを備え、前記マスクのパターンの一部を前記基板上に投射した状態で、前記マスクステージ及び前記基板ステージを介して前記マスク及び前記基板を対応する方向に同期して走査することによって、前記マスクのパターンを前記基板上に逐次転写露光する走査型露光装置において、前記マスクステージの2次元的な位置を計測するマスク側位置計測装置と、前記基板ステージの2次元的な位置を計測する基板側位置計測装置と、前記2つの位置計測装置の内の一方の計測結果を成分とするベクトル量に、前記マスクと前記基板との間の倍率、及び前記マスクと前記基板との間の回転角を含む成分からなる変換行列を乗じて得られるベクトル量から、前記2つの位置計測装置の他方の計測結果を成分とするベクトル量を差し引いて誤差ベクトル量を求めると共に、予め計測してある前記マスクのパターンの前記基板上での転写位置の誤差に基づいて前記マスクと前記基板との相対位置を補正するための補正ベクトル量を求める演算手段と、該演算手段によって求められた前記誤差ベクトル量及び前記補正ベクトル量に基づいて前記マスクステージ及び前記基板ステージの相対位置を制御する制御手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 515 G , H01L 21/30 516 B

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-289153 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-289985 出願人：株式会社ニコン
位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-202976 出願人：株式会社ニコン

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