特許
J-GLOBAL ID：200903027824163341

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
樽谷 晋司

樽谷 晋司 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-200857
公開番号（公開出願番号）：特開2006-023489
出願日： 2004年07月07日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【課題】 現像欠陥が極めて少なく、かつパターン倒れマージンに優れるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)樹脂の主鎖又は側鎖にカルボキシル基を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)エポキシ化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)カルボキシル基を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)エポキシ化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/039 ,  C08F 20/06 ,  C08F 22/00 ,  C08G 59/20 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/039 601 ,  C08F20/06 ,  C08F22/00 ,  C08G59/20 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (70件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4J036AG01 ,  4J036AG04 ,  4J036AG06 ,  4J036AH15 ,  4J036AJ01 ,  4J036AJ02 ,  4J036AJ05 ,  4J036AJ08 ,  4J036AJ09 ,  4J036AJ11 ,  4J036AJ15 ,  4J036AJ18 ,  4J036DA04 ,  4J036FB03 ,  4J036FB04 ,  4J036GA21 ,  4J036GA22 ,  4J036GA23 ,  4J036GA24 ,  4J036GA25 ,  4J036GA26 ,  4J036HA01 ,  4J036JA09 ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ09P ,  4J100AL08P ,  4J100AL36P ,  4J100AL41P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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