特許
J-GLOBAL ID：200903027859821635
フォトマスクブランクおよびフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大野 聖二
, 森田 耕司
, 片山 健一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-056662
公開番号（公開出願番号）：特開2007-233179
出願日： 2006年03月02日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】化学的洗浄によるクロム系の反射防止膜の光学的特性の変化を抑制可能な耐薬品性に優れたフォトマスクブランクを提供すること。【解決手段】フォトマスクブランクは、透明基板11上に、遮光膜13とクロムを主成分とする反射防止膜14とを有する。反射防止膜14の表面領域の組成は、窒素の含有率が3〜30atom%、窒素と酸素の含有率の合計が50〜65atom%であり、表面領域の深さは3nm以上、好ましくは5nm以上とされる。反射防止膜14の表面領域が適度量の酸素および窒素を含むことにより、反射防止膜としての機能を有する。そして、窒素の含有率を上記範囲とし、かつ窒素と酸素の含有率の合計を50atom%以上とすることで反射防止膜14の表面の薬品耐性を向上させている。また、パターニング時の断面形状悪化を抑制するために、窒素と酸素の含有率を65%以下としている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光膜と反射防止膜とが順次積層されており、前記反射防止膜はクロム酸化窒化物(CrON)を主成分とする膜であって、該反射防止膜の表面領域の組成は、窒素(N)の含有率が3〜30atom%、かつ、窒素(N)と酸素(O)の含有率の和が50〜65atom%であることを特徴とするフォトマスクブランク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2H095BC05
, 2H095BC14
, 2H095BC24
, 4K029AA09
, 4K029BA41
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 4K029DC39
