特許
J-GLOBAL ID：200903097246964180
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400378
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195479
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン材料膜と遮光膜との積層構造を有するブランクを用いて製造されるハーフトーン型位相シフトマスクにおけるハーフトーン材料膜パターンの寸法精度を向上する。【解決手段】 透明基板1の上に、ハーフトーン材料膜3と、このハーフト-ン材料膜3上に形成された金属膜4及び反射防止膜5からなる遮光膜とを有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク1において、前記遮光膜を当該膜厚が50ナノメートル〜77ナノメートルの範囲となるように成膜した。これにより、ハーフトーン型位相シフトマスクの製造時において、遮光膜の除去前後における膜応力差が低減される。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に、ハーフトーン材料膜と、このハーフト-ン材料膜上に形成された遮光膜とを有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記遮光膜の膜厚が、前記ハーフトーン材料膜と積層したときの露光光に対する遮光性が充分である膜厚であり、且つ77ナノメートル以下の範囲とされていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 G
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BB35
, 2H095BB36
, 2H095BB37
, 2H095BC05
, 2H095BC09
, 2H095BC13
, 2H095BC24
