特許
J-GLOBAL ID：200903085585825426
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-364227
公開番号（公開出願番号）：特開2005-128278
出願日： 2003年10月24日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 ArFエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。【解決手段】 基板上に位相シフト多層膜を具備する位相シフトマスクブランクであって、前記位相シフト多層膜が、少なくとも1層の金属、金属とケイ素、又は不飽和金属化合物からなる光吸収機能膜と、少なくとも1層の位相シフト機能膜とからなり、前記光吸収機能膜の波長157〜260nmの光に対する消衰係数kが、波長157nmから260nmに向かうに従って増加すると共に、前記光吸収機能膜の膜厚を15nm以下とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に位相シフト多層膜を具備する位相シフトマスクブランクであって、前記位相シフト多層膜が、少なくとも1層の金属、金属とケイ素、又は金属若しくは金属とケイ素を主要構成元素とする酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化窒化炭化物若しくは窒化炭化物の不飽和金属化合物からなる光吸収機能膜と、少なくとも1層の金属又は金属とケイ素を含有する酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化窒化炭化物又は窒化炭化物からなる位相シフト機能膜とからなり、前記光吸収機能膜の波長157〜260nmの光に対する消衰係数kが、波長157nmから260nmに向かうに従って増加すると共に、前記光吸収機能膜の膜厚が15nm以下であることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/08 A
, G03F1/08 K
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB35
, 2H095BC05
, 2H095BC14
, 2H095BC24
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
