ウエット処理方法及び処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185383
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036079
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】本発明は、従来よりもより高清浄な洗浄が可能なウエット処理方法及び処理装置を提供すること。【解決手段】オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズルと、超純水を供給するための超純水用ノズルと、電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズルと、被処理物をブラッシングするためのブラシと、を少なくとも有する第1の槽と、被処理物に電解イオン水を高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズルと、超純水を被処理物に供給するための超純水用ノズルと、を少なくとも有する第2の槽と、電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射するための手段と、を少なくとも有する第3の槽と、電解イオン水を導入するためのノズルを有する被処理物の乾燥を行うための第4の槽と、を少なくとも有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、乾燥工程、を順に有することを特徴とするウエット処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 L

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-140727
洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-014457 出願人：富士通株式会社
ウェット処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-218211 出願人：日本電気株式会社

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