特許

J-GLOBAL ID：200903028197716549

液供給機構および液供給方法ならびに現像処理装置および現像処理方法

発明者： 高木 康弘 ,  寺田 尚司
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-064514
公開番号（公開出願番号）：特開2005-246348
出願日： 2004年03月08日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】市販のスタティックミキサー等の混合装置を用いることなく、インラインで液体と液体とを均一に混合して供給することができる液供給機構を提供すること。【解決手段】純水が流れる主管52と、界面活性剤溶液が流れる支管56と、支管56が主管52に接続され、純水および界面活性剤溶液を主管52内で合流させて混合する混合部61とを具備し、純水および界面活性剤溶液が混合してなるリンス液を主管52を通流させて供給する液供給機構であって、純水および界面活性剤溶液が合流する際に、純水のレイノルズ数Re1と界面活性剤溶液のレイノルズ数Re2とがRe1≦Re2を満たすように、純水および界面活性剤溶液の流速ならびに主管52および支管56の内径が設定される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

第1の液体が流れる主管と、第2の液体が流れる支管と、前記支管が前記主管に接続され、前記第1の液体および前記第2の液体を前記主管内で合流させて混合する混合部とを具備し、前記第1の液体および前記第2の液体の混合液を前記主管を通流させて供給する液供給機構であって、前記第1の液体および第2の液体が合流する際に、第1の液体のレイノルズ数Re1と第2の液体のレイノルズ数Re2とがRe1≦Re2を満たすように、前記第1の液体および第2の液体の流速ならびに前記主管および前記支管の内径が設定されることを特徴とする液供給機構。

IPC (7件)：

B01F3/08 ,  B01F5/04 ,  B01J4/00 ,  C11D1/00 ,  C11D17/08 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

FI (8件)：

B01F3/08 Z ,  B01F5/04 ,  B01J4/00 103 ,  C11D1/00 ,  C11D17/08 ,  G03F7/30 501 ,  H01L21/30 569F ,  H01L21/30 569C

Fターム (20件)：

2H096AA25 ,  2H096GA11 ,  2H096GA23 ,  4G035AB37 ,  4G035AC01 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G068AA06 ,  4G068AB11 ,  4G068AC05 ,  4G068AD16 ,  4G068AF01 ,  4G068AF31 ,  4H003AA01 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA12 ,  5F046LA14

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 現像工程におけるフォトレジストパターンの倒れを防止する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-286834   出願人：三菱電機株式会社

審査官引用 (4件)

• 薬液供給ポンプ、薬液供給装置、薬液供給システム、基板洗浄装置、薬液供給方法、及び基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-316244   出願人：ユーシーティー株式会社
• 蛍光体前駆体粒子の製造装置、及び蛍光体、蛍光体前駆体粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-232776   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 基板処理装置及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-166941   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-270126   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝