特許
J-GLOBAL ID：200903088356231058
現像工程におけるフォトレジストパターンの倒れを防止する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-286834
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142349
出願日： 1993年11月16日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 現像工程における高アスペクト比のレジストパターンの倒れを防止する。【構成】 現像液とリンス液の少なくとも一方に界面活性剤を混入し、表面処理によってレジストパターン表面の濡れ性と粘着性を低下させ、またはレジストパターン間の液体中に微小な気泡もしくは微粒子を分散させてレジストパターン間の接触を防止することによってレジストパターン倒れを低減させる。
請求項（抜粋）：
現像工程におけるフォトレジストパターンの倒れを防止する方法であって、前記現像工程に用いられる現像液とリンス液との少なくとも一方の液中に界面活性剤を添加して前記液の表面張力を低下させることを特徴とするフォトレジストパターンの倒れを防止する方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 569 E
, H01L 21/30 569 F
