特許
J-GLOBAL ID：200903050811579036
基板処理装置及び基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-166941
公開番号（公開出願番号）：特開2004-014844
出願日： 2002年06月07日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】現像液等の処理液を洗い流す際に基板上に均一にリンス液を供給することができ、しかも、処理液中に例えばレジストの不溶解物が含まれている場合、あるいはリンス液中に不純物が含まれている場合であっても、それらの不純物が基板に付着することを防止すること。【解決手段】本発明では、表面張力を低下させる界面活性剤が含まれたリンス液を現像液が供給されたウェハW上に吐出する長尺形状のノズル153を備えている。このような長尺形状のノズル153により吐出しているので、ウェハW上に均一にリンス液を拡散させることができ、パターン倒れを防止することができる。また、リンス液に分散剤を添加することで、現像液中あるいはリンス液中の不純物を分散させウェハに付着することを防止している。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板上に処理液を供給する手段と、
表面張力を低下させる第1の処理剤が含まれたリンス液を前記処理液が供給された基板上に吐出する長尺形状のノズルと
を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, B05B1/14
, H01L21/304
H01L21/30 569F
, B05B1/14 Z
, H01L21/304 643C
, H01L21/304 647B
, H01L21/30 569C
, H01L21/30 569E
2H096AA25
, 2H096GA18
, 2H096HA30
, 4F033AA04
, 4F033BA04
, 4F033CA01
, 4F033DA01
, 4F033EA06
, 4F033NA01
, 5F046LA03
, 5F046LA04
, 5F046LA12
, 5F046LA14
