特許

J-GLOBAL ID：200903028267188235

銅基材に有益な化学機械的研磨スラリー

発明者： カウフマン,ブラスタ,ブラシック ,  キストラー,ロドニー シー. ,  ワン,シュミン
出願人/特許権者： キャボット コーポレイション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-536803
公開番号（公開出願番号）：特表2002-506915
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2002年03月05日
要約：

【要約】酸化剤、錯化剤、研磨材、及び随意の界面活性剤を含有する化学機械的研磨スラリー、並びに化学機械的研磨スラリーを使用して、銅合金、チタン、窒化チタン、タンタル、及び窒化タンタルを含む層を基材から除去する方法。このスラリーは、別個のフィルム形成剤を含有しない。

請求項（抜粋）：

研磨材、 少なくとも1種の酸化剤、及び クエン酸、乳酸、酒石酸、マロン酸、コハク酸、シュウ酸、アミノ酸、それらの塩、及びそれらの混合物を含む化合物の群より選択される約0.1〜5.0wt%の錯化剤、を含有する化学機械的研磨スラリーであって、pHが約5〜約9であり、フィルム形成剤を含有しない、化学機械的研磨スラリー。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

C09K 3/14 550 Z ,  H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/306 M

Fターム (2件)：

5F043AA26 ,  5F043DD16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 化学的機械研磨用研磨組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-223072   出願人：昭和電工株式会社
• 金属の層と膜に使用される化学的機械的研磨用スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-119404   出願人：キャボットコーポレイション
• 研磨液及び基体の研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217210   出願人：旭硝子株式会社
• フッ化物添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーとその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-147688   出願人：キャボットコーポレイション