特許
J-GLOBAL ID：200903028411109795

基板のプロセス処理システムおよびプロセス処理方法

発明者：
小黒 謙治

小黒 謙治 について

, 
内田 俊弘

内田 俊弘 について


出願人/特許権者：
三井造船株式会社

三井造船株式会社 について


代理人 (1件)： 村上 友一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-215296
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044258
出願日： 1999年07月29日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ワーク形状に制限を受けることがなく効率的にローディングを行なうことができるとともに、真空容器内でのパーティクルなどの汚染物質の発生を抑制しつつ、縦型プロセス処理装置に対するワークへのプロセス処理への移行操作と搬出入操作を効率的に行なう。【解決手段】 ロードロックチャンバLCを上下多段に形成するとともにトランスファーチャンバTCの周囲に複数配置することにより処理対象基板を複数同時収容可能としておき、各ロードロックチャンバには方向転換手段を設けトランスファーチャンバによる受渡し方向に基板を転換可能とする。プロセスチャンバPCには垂直移送手段を設け、垂直移送手段に取り付けられたフレームに対して転回テーブルを設け、転回テーブルには基板把持手段を転回テーブルの回転駆動手段に連動して圧着開放をなさしめ、回転駆動手段を垂直移送手段による垂直移送時に転回テーブルと切り離しできるようにする。
請求項（抜粋）：
真空容器内にロードロックチャンバ、トランスファーチャンバ、プロセスチャンバを形成し、前記トランスファーチャンバに設けたトランスファーマシンにより処理対象基板を前記ロードロックチャンバとプロセスチャンバ間で相互移送させるようにしたプロセス処理システムにおいて、前記ロードロックチャンバを上下多段に形成するとともにこれを前記トランスファーチャンバの周囲に複数配置することにより処理対象基板を複数同時収容可能としておき、各ロードロックチャンバには方向転換手段を設けることにより前記トランスファーチャンバによる受渡し方向に前記基板を転換可能としてなり、前記プロセスチャンバには垂直移送手段を設け、当該垂直移送手段に取り付けられたフレームに対して転回テーブルを設け、当該転回テーブルには基板把持手段を前記転回テーブルの回転駆動手段に連動して圧着開放をなさしめ、前記回転駆動手段を前記垂直移送手段による垂直移送時に前記転回テーブルと切り離し可能としてなる、ことを特徴とする基板のプロセス処理システム。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/205
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  B65G 49/06 A ,  B65G 49/07 Z ,  H01L 21/205
Fターム (27件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA13 ,  5F031GA15 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA54 ,  5F031MA04 ,  5F031MA07 ,  5F031MA31 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031NA09 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EM01 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10 ,  5F045EN01 ,  5F045EN02 ,  5F045EN04 ,  5F045EN10
引用特許：
審査官引用 (7件)
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