特許
J-GLOBAL ID：200903028449650716
処理容器およびプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡邊 和浩
, 星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-312160
公開番号（公開出願番号）：特開2009-140939
出願日： 2007年12月03日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】 プラズマ処理装置において処理容器の内面を保護する保護部材の交換作業が容易で、部品コストも抑制できる処理容器を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置の処理容器101において、基板搬送用開口161を有する側壁101bの内面は、保護部材としてのライナー201a,201b,201c,201dにより覆われている。基板搬送用開口161のコーナー部161aにはプラズマが集中しやすく消耗が激しいため、その周囲のライナー201a,201cを、これらに比べて消耗が遅いライナー201b,201dと別部材で分離可能に構成した。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
被処理体を内部に収容してプラズマ処理を行う処理容器であって、
開口部分を有する容器本体と、
前記容器本体をプラズマおよび/または腐食性ガスによる損傷から保護する保護部材とを備え、
前記保護部材は、前記容器本体の内壁面に沿って配設された第1の保護部材と、
前記開口部分の周囲において、前記第1の保護部材と分離して着脱可能に配設された第2の保護部材と、
を有していることを特徴とする処理容器。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
H01L21/302 101G
, H01L21/205
5F004BA04
, 5F004BB29
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F045AA08
, 5F045BB10
, 5F045DP03
, 5F045EC05
, 5F045EH14
, 5F045EN04
出願人引用 (1件)
-
真空処理装置
公報種別：再公表公報
出願番号：JP2001008624
出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (3件)
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