水処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-354875
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170638
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】残留塩素センサS2を用いて被処理水Wの残留塩素濃度を制御する水処理装置1であって、被処理水Wの残留塩素濃度を良好に制御できる装置が望まれていた。【解決手段】残留塩素センサS2の測定値に基づいて、必要な量の遊離残留塩素を発生させるように、電解槽12への通電量を制御する制御手段40を設ける。【効果】電気分解によって発生する遊離残留塩素量は、加えた電流量と相関があるので、不足残留塩素分の塩素量を電気分解にて発生させれば、残留塩素濃度制御が良好に行える。

請求項（抜粋）：

被処理水を貯留する水槽と、被処理水を電気化学反応によって滅菌する電解槽と、水槽から被処理水を電解槽へ導入し、かつ電解槽で滅菌された後の水を水槽に還流する水処理経路と、被処理水の残留塩素濃度を測定する残留塩素センサと、残留塩素センサの測定値に基づいて、必要な量の遊離残留塩素を発生させるように、電解槽への通電量を制御する制御手段と、を含むことを特徴とする水処理装置。

IPC (4件)：

C02F 1/46 , C02F 1/50 531 , C02F 1/76 , C25B 9/00

FI (4件)：

C02F 1/46 Z , C02F 1/50 531 M , C02F 1/76 , C25B 9/00 A

Fターム (46件)：

4D050AA01 , 4D050AA10 , 4D050AB06 , 4D050BB05 , 4D050BB06 , 4D050BD02 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA01 , 4D050CA08 , 4D050CA10 , 4D050CA15 , 4D061DA07 , 4D061DB01 , 4D061DB09 , 4D061DB10 , 4D061EA03 , 4D061EB20 , 4D061EB30 , 4D061EB37 , 4D061EB39 , 4D061ED01 , 4D061ED13 , 4D061FA01 , 4D061FA08 , 4D061FA13 , 4D061GA06 , 4D061GA21 , 4D061GC01 , 4D061GC02 , 4D061GC05 , 4D061GC11 , 4D061GC12 , 4D061GC19 , 4D061GC20 , 4K021AB07 , 4K021BA03 , 4K021BB01 , 4K021BB05 , 4K021BC01 , 4K021CA06 , 4K021CA09 , 4K021CA10 , 4K021CA13 , 4K021DC07

引用特許：

審査官引用 (11件)

水質浄化方法及びその機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-299084 出願人：株式会社テー・アール・ピー
水質維持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-190926 出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
浴水循環装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-275192 出願人：株式会社ブリヂストン

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