特許

J-GLOBAL ID：200903028529929320

透明導電膜形成方法、該方法により形成された透明導電膜および該透明導電膜を有する物品

発明者： 伊藤 博人 ,  辻 稔夫 ,  清村 貴利
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 岩間 芳雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-145365
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342738
出願日： 2002年05月20日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 安全性が高く、生産性に優れ、良好な透過率特性を有し、電気特性が良好で、プラスチックフィルム基材上での膜付に優れた透明導電膜形成方法並びに透明導電膜及び透明導電膜を有する物品を提供すること。【解決手段】 大気圧または大気圧近傍の圧力下において、不活性ガスと反応性ガスを含有する混合ガスを電極間の放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒し、基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法において、反応性ガスが還元性ガス及び分子内に少なくとも1つの酸素原子を有する無機ガスである透明導電膜形成方法。

請求項（抜粋）：

大気圧または大気圧近傍の圧力下において、不活性ガスと反応性ガスを含有する混合ガスを電極間の放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒し、基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法において、反応性ガスが還元性ガス及び分子内に少なくとも1つの酸素原子を有する無機ガスであることを特徴とする透明導電膜形成方法。

IPC (8件)：

C23C 16/50 ,  C23C 16/40 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/28

FI (8件)：

C23C 16/50 ,  C23C 16/40 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/28

Fターム (35件)：

2H090JB03 ,  2H090LA01 ,  2H092HA04 ,  2H092MA08 ,  2H092MA35 ,  2H092NA28 ,  2H092PA01 ,  3K007AB05 ,  3K007AB15 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA07 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030AA20 ,  4K030BA02 ,  4K030BA11 ,  4K030BA15 ,  4K030BA42 ,  4K030BA45 ,  4K030BA47 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030JA06 ,  4K030JA10 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030JA20 ,  4K030LA18

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 低電気抵抗透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-133351   出願人：株式会社神戸製鋼所
• プラスチックシート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-319188   出願人：住友ベークライト株式会社
• 透明導電膜の製造方法および透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-110800   出願人：コニカ株式会社
• ダイヤモンド状炭素薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-168682   出願人：積水化学工業株式会社
• 堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088403   出願人：キヤノン株式会社