フッ素分子レーザ装置、及びフッ素露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松澤統
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398410
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198590
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】色消し方式フッ素露光装置用の光源として、0.75pm以下のスペクトル幅Δλのレーザ光を発振することのできる、フッ素レーザ装置を提供する。【解決手段】バッファガス及びフッ素を含むレーザガスを封入するレーザチャンバ(2)と、高電圧(V)を印加して主放電を起こし、レーザガスを励起してフッ素分子レーザ光11を発振させる一対の放電電極(4,5)とを備え、フッ素露光装置(21)用の光源となるフッ素分子レーザ装置において、前記レーザチャンバ(2)内のレーザガスのガス圧力(p)を、フッ素露光装置(21)の要求するフッ素分子レーザ光(11)のスペクトル幅(Δλ)に基づいて変更自在としたことを特徴とするフッ素分子レーザ装置。

請求項（抜粋）：

バッファガス及びフッ素を含むレーザガスを封入するレーザチャンバ(2)と、高電圧(V)を印加して主放電を起こし、レーザガスを励起してフッ素分子レーザ光(11)を発振させる放電電極(4,5)とを備え、フッ素露光装置(21)用の光源となるフッ素分子レーザ装置において、前記レーザチャンバ(2)内のレーザガスのガス圧力(p)を、フッ素露光装置(21)の要求するフッ素分子レーザ光(11)のスペクトル幅(Δλ)に基づいて変更自在としたことを特徴とするフッ素分子レーザ装置。

IPC (8件)：

H01S 3/036 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , H01S 3/038 , H01S 3/104 , H01S 3/223 , H01S 3/23

FI (8件)：

G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01S 3/104 , H01S 3/23 , H01S 3/03 J , H01L 21/30 515 B , H01S 3/03 B , H01S 3/223 Z

Fターム (25件)：

2H097CA06 , 2H097CA11 , 2H097CA13 , 2H097CA17 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046CA03 , 5F071AA04 , 5F071CC10 , 5F071DD04 , 5F071HH01 , 5F071HH02 , 5F071HH03 , 5F071JJ10 , 5F072AA04 , 5F072HH01 , 5F072HH02 , 5F072JJ13 , 5F072KK01 , 5F072KK08 , 5F072KK18 , 5F072KK30 , 5F072RR05 , 5F072SS06 , 5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (8件)

エキシマレーザーまたはフッ素分子レーザーシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-073277 出願人：ラムダ・フィジーク・ゲゼルシャフト・ツァ・ヘルシュテルンク・フォン・ラーゼルン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
ウェーブガイド・レーザ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-525096 出願人：イギリス国
狭帯域レ-ザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-261888 出願人：株式会社東芝

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