特許
J-GLOBAL ID:200903028667922221

バイオチップ用基板及びバイオチップ用基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  栗原 彰 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-194381
公開番号(公開出願番号):特開2006-023301
出願日: 2005年07月01日
公開日(公表日): 2006年01月26日
要約:
【課題】バックグランドノイズを低減可能なバイオチップ用基板およびバイオチップ基板の製造方法を提供する。【解決手段】表面に複数の水酸基を導入可能な第1の層13、第1の層13上に配置され、第1の層13に達する複数のウェル41a〜41i及び複数のウェルを連結する複数の流路31a〜31iのそれぞれが設けられ、第1の層13と異なる材料からなる第2の層11を備える。【選択図】図19
請求項(抜粋):
シリコン酸化物層と、 前記シリコン酸化物層の上に配置され、前記シリコン酸化物層に達する複数のウェルが設けられた非反応層と、 前記ウェルを介して表出する前記シリコン酸化物層の表面に配置された生体物質 とを備えることを特徴とするバイオチップ用基板。
IPC (3件):
G01N 33/543 ,  G01N 33/53 ,  G01N 37/00
FI (4件):
G01N33/543 525U ,  G01N33/543 525G ,  G01N33/53 M ,  G01N37/00 102
Fターム (3件):
4B024AA11 ,  4B024CA09 ,  4B024HA12
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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