特許
J-GLOBAL ID:200903028672378785

液晶表示素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-134587
公開番号(公開出願番号):特開2004-341049
出願日: 2003年05月13日
公開日(公表日): 2004年12月02日
要約:
【課題】簡略化された光配向処理工程で、異なるプレティルト方向をもつ微小領域を形成することのできる液晶表示素子を製造する。【解決手段】光に感応し、液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を、電極を有する第1の基板表面に形成する。第1の基板表面に形成された配向材料の膜に、第1の基板の法線方向から傾いた方向から光を照射し、垂直配向からのプレティルト角の異なる2種類の微小領域を形成する。液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を、電極を有する第2の基板表面に形成する。第1の基板と第2の基板とを、配向材料の膜が形成された面を向き合わせて対向配置し、第1及び第2の基板間に液晶層を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光に感応し、液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を、電極を有する第1の基板表面に形成する工程と、 前記第1の基板表面に形成された配向材料の膜に、前記第1の基板の法線方向から傾いた方向から光を照射し、垂直配向からのプレティルト角の異なる2種類の微小領域を形成する工程と、 液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を、電極を有する第2の基板表面に形成する工程と、 前記第1の基板と前記第2の基板とを、配向材料の膜が形成された面を向き合わせて対向配置し、前記第1及び第2の基板間に液晶層を形成する工程と を有する液晶表示素子の製造方法。
IPC (1件):
G02F1/1337
FI (2件):
G02F1/1337 ,  G02F1/1337 505
Fターム (5件):
2H090MA01 ,  2H090MA10 ,  2H090MA15 ,  2H090MB12 ,  2H090MB14
引用特許:
審査官引用 (7件)
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