特許

J-GLOBAL ID：200903028686166080

基板端縁部被膜の除去方法及び除去装置

発明者： 沓沢 潤司 ,  甲斐 義人 ,  宮本 英典 ,  島井 太
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-050106
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250390
出願日： 1995年03月09日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】 使用する溶剤の使用量を抑制しつつ基板端部の被膜を有効に除去する。【構成】 除去ユニット10は除去ユニット本体11を備え、この除去ユニット本体11内には図示しない溶剤貯留部につながる配管を設け、また除去ユニット本体11の上部にはヘッド12を設け、このヘッド12には水平方向に広がる隙間13を形成し、この隙間13に溶剤供給口14a,14bを臨ませている。ヘッド12の左右の側面にはアーム15,16が取り付けられ、これらアーム15,16には基板Wに向かって開口するスリット17,18が形成され、更にアーム15,16の外端部には溶剤の排出管19,20が接続され、溶剤供給口14a,14bから供給された溶剤はスリット17,18内を通り、溶剤の排出管19,20から排出される。

請求項（抜粋）：

溶剤が流れる除去ユニットのスリット内に基板の端縁を水平方向から挿入した後、基板端縁に沿って除去ユニットを相対的に移動せしめることで基板端縁の余分な付着物を除去するようにしたことを特徴とする基板端縁部被膜の除去方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/30 577 ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 341 N

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フオトレジスト除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-302450   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-202827   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置および膜除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-175034   出願人：株式会社日立製作所