電気光学装置の製造方法、電気光学装置および投射型表示装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043349
公開番号（公開出願番号）：特開2001-235757
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】基板上に配向膜を均等な厚さで、かつ、選択的に形成することにより、表示の品位が高く、かつ、耐湿性能も高い電気光学装置の製造方法、電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた投射型表示装置を提供すること。【解決手段】電気光学装置1において、TFTアレイ基板10および対向基板20にスピンコート法で配向膜24、25を形成した後、シール材52と重なる領域およびそれより外周領域の配向膜24、25をプラズマ照射により除去し、しかる後にTFTアレイ基板10と対向基板20とをシール材52で貼り合わせる。この際に、大気圧プラズマとして、酸素ガス間接放電方式によりプラズマを発生させる。

請求項（抜粋）：

第1の基板と第2の基板とを所定の間隙を介してシール材で貼り合わせる貼り合わせ工程と、前記第1の基板と前記第2の基板の間隙のうち前記シール材で区画された領域内に電気光学物質を充填する充填工程とを有する電気光学装置の製造方法において、前記貼り合わせ工程を行なう前に、前記第1および第2の基板のうちの少なくとも一方の基板表面にスピンコート法により配向膜を塗布する配向膜塗布成工程と、スピンコート法で形成した前記配向膜のうち、少なくとも前記シール材の形成領域下の一部を当該シール材の形成領域に沿って除去する配向膜除去工程とを行なうことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1339 505 , G02F 1/13 505 , G02F 1/1337 , G09F 9/00 360

FI (4件)：

G02F 1/1339 505 , G02F 1/13 505 , G02F 1/1337 , G09F 9/00 360

Fターム (30件)：

2H088EA14 , 2H088EA15 , 2H088HA06 , 2H088MA01 , 2H088MA20 , 2H089LA46 , 2H089NA25 , 2H089NA39 , 2H089QA07 , 2H089TA11 , 2H089TA16 , 2H089UA05 , 2H090HC05 , 2H090HC10 , 5G435AA13 , 5G435BB12 , 5G435BB17 , 5G435CC12 , 5G435DD02 , 5G435DD05 , 5G435FF00 , 5G435GG01 , 5G435GG02 , 5G435GG03 , 5G435GG04 , 5G435GG08 , 5G435GG28 , 5G435GG46 , 5G435KK05 , 5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭59-195221
特開昭63-049788
特開昭57-136626

全件表示

審査官引用 (7件)

特開昭59-195221
特開昭63-049788
特開昭57-136626

全件表示

前のページに戻る